微弧氧化的工藝流程非常簡(jiǎn)單，只要進(jìn)行除油、水洗、微弧氧化再水洗，就可以讓工業(yè)鋁型材表面的陶瓷層具有非常好的耐腐蝕性、耐磨性、柔韌性、耐高溫和強(qiáng)結(jié)合力，使膜層表面光亮且厚度可達(dá)200-300μm。那么微弧氧化處理受哪些因素的影響呢？

1：合金材料及表面結(jié)構(gòu)

微弧氧化處理對(duì)工業(yè)鋁型材的合金成分要求并不高，某些含銅或含硅量較高的鑄鋁合金，采用陽(yáng)極氧化的方式不能處理，采用微弧氧化的方法都可以處理；對(duì)表面結(jié)構(gòu)也不要求很高，一般不需要進(jìn)行拋光處理，對(duì)于粗糙的表面，經(jīng)微弧氧化后都可達(dá)到更加平整光滑的效果。

2：電解質(zhì)溶液的組成

微弧氧化的電解質(zhì)溶液一般由金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液組成，有硅酸鹽、磷酸鹽等，要想取得優(yōu)質(zhì)的陶瓷膜層，必須要控制好電解質(zhì)溶液的組成。要將電解質(zhì)溶液的pH值控制在9-13的范圍之內(nèi)，根據(jù)膜層性質(zhì)，決定是否需要添加有機(jī)或無(wú)機(jī)鹽的添加劑，在電壓不變的情況下，溶液的濃度越大，成膜的速度越快，溫度上升越慢，溶液的濃度越低，成膜速度越慢，溫度反而會(huì)快速上升，所以電解質(zhì)溶液決定成膜的質(zhì)量。

3：電壓與電流密度

不同的工業(yè)鋁型材基體和不同的電解液，在微弧氧化放電時(shí)形成的擊穿電壓不同，擊穿電壓是指剛發(fā)生在表面的微弧放電電壓，而微弧氧化電壓通常要比擊穿電壓高出上百伏，通常在200-600v的范圍之內(nèi)，不同的電壓產(chǎn)生的氧化膜厚度和其它性能都不同，所以微弧氧化電壓對(duì)于成膜很重要。在微弧氧化的電壓剛達(dá)到控制值時(shí)，電流密度是最大的，隨著氧化的進(jìn)行，陶瓷膜層的加厚，電流密度越來(lái)小，電壓和電流的密度對(duì)于膜層的厚度有很大的影響，所以通過(guò)控制電壓和電流密度的方法來(lái)進(jìn)行微弧氧化，對(duì)于陶瓷膜的質(zhì)量至關(guān)重要。

4：電解液溫度：微弧氧化的電解液溫度一般控制在20-60℃的范圍之內(nèi)，而它的允許值范圍更大，可在10-90℃之間，溫度越高，成膜的速度越快，同時(shí)電解液的揮發(fā)越快，表面粗糙度也越高，微弧氧化是一個(gè)放熱過(guò)程，需要配備制冷設(shè)備，在工業(yè)鋁型材的表面會(huì)逸出大量氣體，還要安裝空氣壓縮裝置對(duì)槽液進(jìn)行充分?jǐn)嚢瑁寡趸瘻囟染弧?/span>

5：氧化時(shí)間：微弧氧化的時(shí)間通常控制在10-60min的范圍之內(nèi)，氧化時(shí)間越長(zhǎng)，所形成的陶瓷膜的致密性越好，不過(guò)它的表面粗糙度也越高。

6：陰極材料：微弧氧化的陰極材料一般由不溶性金屬材料組成，而電解液一般為堿性溶液，可用碳鋼、不銹鋼或鎳等這些材料作為陰極材料來(lái)進(jìn)行微弧氧化處理。